La tecnología de deposición de capa atómica (ALD), también conocida como tecnología epitaxial de capa atómica (ALE), es una tecnología de deposición de película de vapor químico basada en una reacción de autosaturación de superficie ordenada. Dado que la mayoría de los metales y óxidos depositados por ALD son catalizadores en algunas reacciones, la aplicación de ALD en el campo de la catálisis ha atraído la atención de la gente durante mucho tiempo.

Además, como un nuevo método ascendente, ALD tiene características únicas de conformación TRIDIMENSIONAL, alta uniformidad, control atómico preciso y baja temperatura de crecimiento, que, como la impresión "3D", logra una síntesis fina controlable de catalizadores altamente homogéneos.